Jonų reakcinio ėsdinimo įrenginys Oxford Instruments 100 RIE ICP-65

Padalinys: Fizikos fakultetas

Raktažodžiai: Jonų reakcinis ėsdinimas, Oxford Instruments, epitaksiniai puslaidininkių sluoksniai, lazerinis interferometras

Atsakingas žmogus: Dr. Ignas Reklaitis, tel. +37060034126,

Įranga skirta ėsdinti mesa struktūras epitaksiniuose puslaidininkių sluoksniuose. 

Sistema turi lazerinį (λ=660 nm) interferometrą skirtą in-situ sluoksnio ėsdinimo spartos kontrolei. Prie sistemos yra prijungtas Cl2, BCl3, O2, SF6 ir Ar dujų tiekimas. Apatinio elektrodo temperatūra gali būti keičiama nuo -30 iki 80 °C, ICP šaltinis 600W galios. Vienu metu ėsdinamas vienas bandinys, geriausi rezultatai pasiekiami bandiniams, kurių diametras yra iki 2‘‘, tačiau yra galimybė ėsdinti bandinius iki 8‘‘ diametro. Ėsdinamų struktūrų gylio ir pločio santykis iki 20:1.

Panaudojimo galimybės. Puslaidininkių struktūrų ėsdinimas sausuoju būdu.